65寸透明EMI/RFI屛蔽膜

电磁波屏蔽膜也叫EMI(ElectroMagnetic Interference-电磁干扰)保护膜或吸波材料。

目前用作 RFI(RF Interference-射频干扰)屏蔽的材料范围包括导电金属氧化物、金属网和纳米线等材料。

我司EMI/RFI屏蔽膜主要是铜材蚀刻加工后,通过压合于膜材上,主要是对产品内部线路起到减弱或消除电磁干扰/射频干扰的作用。

具有优良的电磁波屏蔽性能的柔性、薄、轻量的电磁波屏蔽膜,用于防止周围环境中的医疗器械、船舶、飞机等精密设备发生故障。

EMI/RFI屏蔽膜提供有效的电磁屏蔽和最佳的透明度(可见光透射率 >80%)。

EMI/RFI屏蔽膜上包含的铜网为 ITO 屏蔽提供了很好的替代品(更好的电阻和导电性)。事实上,ITO 技术是基于具有非常薄层的支撑金属化。该技术提供较低的电导率、较低的透明度和较高的氧化风险。这就是为什么我们更愿意提出这种基于 Cu Mesh 原理的 EMI 屏蔽膜。

优异的性能

   技术参数


测试项目

单位

特性

检验方法

备注

产品名称

/

M05

M01

M005

/

/

迭构

上保护层

µm

50

50

50

ASTM D374

PE

铜网格层

µm

1

2

6

含单面黑化层

基材

µm

125

125

125

PET 

光学胶层

µm

20

20

20

OCA

下保护层

µm

19

19

19

PET

网格图案

/

直角45度

/

/

网格线宽

µm

12

17

17

/

/

网格线距

µm

150

143

143

/

/

穿透率

%

≥75

≥75

≥75

GB/T 2410-2008

400-700nm

面电阻

Ω/□

0.5

0.1

0.05

四点探头

/

铜与PET接着力

/

5B

5B

5B

GB/T 9286-1998

/

光学胶拉力

g/25mm

≥100

≥100

≥100

GB/T 2792-1998

For Glass

可靠度

测试前后面电阻变化率(△ of RS)

%

≦30

≦30

≦30

60℃,95%RH,240H

△R/R0

测试前后穿透变化率(△ of %T)

%

≦10

≦10

≦10

△T/T0

   电性和光学特性

   迭构方式

产品由上保护膜PE+ 铜网格层 + 基材PET+ 下保护层PET)组合而成。

   应用范围

◆ 医院核磁共振、肌电图和脑电图设备的屏蔽

◆ 工业开发实验室的屏蔽;

◆ 计算机的数据安全;

◆ 行政房间的屏蔽防止通过麦克风或建筑物外的电子窃听器进行间谍活动

◆ 屏蔽杂散电磁辐射;

◆ 军工类产品的电子信号屏蔽;

◆ 消费类电子产品(智能手机、平板电脑、触控面板、数码相机、液晶电视等)的电子信号屏蔽。

   优良的物理特性

高低温测试

可达到-85℃到+85℃,极点环境下可正常使用;

环境测试:-80℃、100℃(沸水)、-235℃情况下测试产品功能正常。


循环弯曲测试

弯曲度数:从0~ 90~180度(循环弯曲),弯曲直径:4mm,8mm。


循环折叠测试

当弯曲直径为≦4mm时,弯曲角度从20度到180度循环折叠下能正常使用。


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